吸附式local scrubber 尾氣處理設(shè)備可處理氣體種類包括半導(dǎo)體、液晶以及太陽(yáng)能等行業(yè)中蝕刻制程與化學(xué)氣相沉積制程中使用的特氣,主要包括SiH4、SiH2Cl2、PH3、B2H6、TEOS、H2、CO、NF3、SF6、C2F6、WF6、NH3、N2O等
適合于半導(dǎo)體、新材料及高等院校、科研院所、航空航天和微電子等需要對(duì)燃爆毒腐氣體處理的企業(yè)或?qū)嶒?yàn)室
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